《其他電》光焱科技2設備添動能 營運H2勝H1

【時報記者張漢綺台北報導】光焱科技(7728)新推出AI智慧預測設備「QFLS-Maper」,獲客戶高度肯定,預計6月起開始出貨,為營運增添動能,光焱科技亦將於6月底宣布推矽光子檢測設備,在新設備挹注下,光焱科技樂觀看待下半年營運,光焱科技表示,下半年會比上半年好,114年營運可望較113年雙位數成長。
光焱科技今天舉行股東會,通過每股配息7.03170423元,光焱科技專注光電子、半導體檢測技術,聚焦於模擬光源、光電轉換測試及晶圓級光電檢測三大領域,公司技術發展主係為PIC光子積體電路晶片之光電性能檢測,又可細分CMOS影像感測器(CIS)、LiDar(光達)及SiPh矽光子三大技術方向規劃,以科研領域應用為產品發展基礎,並逐步拓展至產業研發階段進而推動至產業量產、產線之應用。
光焱科技主要營收來源包括半導體光電轉換測試設備、模擬光源、晶圓級光電檢測及其他產品,隨著品牌知名度提升、市場拓展成效顯現,帶動模擬光源及半導體光電晶片轉換效率測試系統營收成長,加上晶圓級光電量測設備市場逐步拓展,光焱科技113年營業收入為3億8011萬6000元,年增約14%,歸屬母公司稅後盈餘為1億826萬8000元,較去年增加約41%,每股盈餘8.79元。
光焱科技114年第1季稅後盈餘為1360萬元,每股盈餘為1.06元,主要是因上市櫃費用、員工認股費用化、研發支出,造成減少每股盈餘約1元,其中不乏一次性費用,但總營收相較去年為持續正常成長,累計前4月合併營收為1.11億元,年減3.14%。
面對全球光電產業邁向高效率、智慧化的新世代材料轉型,光焱推出全新AI智慧預測設備—QFLS-Maper,光焱科技表示,傳統評估光電元件材料性能,往往需等到製程完成後,才能透過J-V曲線進行效率測試,過程繁瑣且風險高,而QFLS-Maper則如同生技界的新藥模擬系統,能在材料階段即由AI分析預測未來表現,快速建立pseudo J-V曲線,準確掌握材料的理論極限效率,大幅提升開發成功率與研發資源運用效率,根據內部實測,整體研發效率預估可提升超過45%。
光焱科技Enlitech QFLS-Maper推出即獲國內外高度關注,由於超高性價比,被譽為「光電材料界的 DeepSeek」,目前每週平均有超過八組國際研究團隊主動洽談合作,目前在手訂單約15台,預計6月開始出貨,為營運挹注新動能。
光焱科技表示,今年上半年公司以QFLS-Maper成功拓展光電材料預測檢測市場,下半年則將持續擴大在半導體領域的應用布局,推出矽光子產業邁向量產階段所需的關鍵量測設備,強化其在次世代光電與高速通訊應用的戰略地位。
光焱科技6月底亦會宣布推矽光子檢測設備,並於7月開始展示設備,此設備主要是針對矽光子晶圓級的檢測,預期可望加快客戶量產速度,目前已有3家頂尖客戶洽談中。