【時報-台北電】震撼半導體業界的台積電2奈米製程洩密案，智慧財產及商業法院今（27）日上午一審宣判，多名涉案工程師與東京威力科創公司遭重判重罰。法院認定，被告等人非法取得涉及國家核心關鍵技術的2奈米製程營業秘密，情節重大，依違反《國家安全法》、營業秘密法及妨害電腦使用等罪論處，其中主嫌陳力銘定應執行10年徒刑，東京威力科創則遭科處1億5000萬元罰金，並須賠償台積電1億元，全案成為台灣科技業營業秘密保護指標案件。

檢方調查指出，曾任職台積電12廠良率部門的工程師陳力銘，因家庭經濟壓力沉重，離職後轉赴東京威力科創任職。當時該公司雖已完成台積電2奈米設備試車初產，但進入後續測試及量產階段後，卻接連碰壁，無法順利突破瓶頸。

檢方指出，陳力銘為求協助新東家爭取訂單與技術突破，竟鋌而走險，找上昔日具有師徒關係的台積電工程師吳秉駿與戈一平協助。2人涉嫌利用遠端連線方式進入內部資料庫，再偷拍12張涉及2奈米製程的機密照片，傳送給陳力銘，供其整理後寫入東京威力科創內部文件，企圖協助量產。

案情曝光後，檢調持續追查，赫然再發現陳力銘另找曾任台積電工程師的陳韋傑，以手機偷拍數十張2奈米製程原料、設備與技術資料，範圍更廣、內容更深，涉及國家核心關鍵技術層級，檢方因此追加起訴。

更令外界譁然的是，東京威力科創行銷經理盧怡尹在案發後，涉嫌將雲端硬碟內存放的台積電機密資料刪除，企圖湮滅證據，遭依湮滅刑事證據罪追訴。檢方同時認定，公司未盡監督管理責任，未有效防止違法行為發生，因此對東京威力科創追加法人刑責。

法院審理後認為，台積電2奈米製程技術攸關我國半導體產業競爭力，更屬國家戰略等級核心技術，被告等人為個人利益及企業競爭需求，非法竊取並意圖使用，嚴重危害產業發展與國安利益，量刑不得寬貸。

判決結果指出，陳力銘定應執行10年徒刑；吳秉駿3年；戈一平2年；陳韋傑6年。盧怡尹則判刑10月、緩刑3年。法人部分，東京威力科創遭科處罰金1億5000萬元，並附帶緩刑3年條件，須賠償台積電1億元，另5000萬元繳交公庫。

對此，東京威力回應表示，本次調查與判決結果均未認定Tokyo Electron及台灣子公司存在組織性介入或機密資訊外流情事，公司與客戶已同意進一步強化營業秘密及機密資訊保護與共享原則，並強調本案對公司營運並無影響。（新聞來源：中時即時 柯毓庭）